La galvanoplastia requereix una font d'alimentació de baixa tensió alta corrent al tanc de galvanoplastia i un dispositiu electrolític compost per solució de galvanoplastia, peces a xapar (càtode) i ànode. La composició de la solució de galvanoplastia varia segons el recobriment, però conté la sal principal que proporciona ions metàl·lics, un agent complexant que pot complexar els ions metàl·lics de la sal principal per formar un complex i un tampó per estabilitzar el pH de la sal principal. solució.
Activador d'ànodes i additius especials. La galvanoplastia és un procés en què els ions metàl·lics de la solució de revestiment es redueixen a àtoms metàl·lics per reacció de l'elèctrode sota l'acció d'un camp elèctric extern, i el metall es diposita al càtode. Per tant, es tracta d'un procés d'electrodeposició de metalls que inclou transferència de massa en fase líquida, reacció electroquímica i electrocristal·lització.
Al bany de revestiment que conté la solució de revestiment, les peces netes i especialment pretractades que s'han de xapar s'utilitzen com a càtode i l'ànode està fet de metall xapat. Els dos pols estan connectats respectivament amb els pols positiu i negatiu de la font d'alimentació de CC. La solució de galvanoplastia està formada per una solució aquosa que conté compostos de metall xapat, sals conductores, tampons, reguladors de pH, additius, etc.
